| 基本信息 | ||
|---|---|---|
| 项目名称： | 先进光刻技术培训 | |
| 项目分类： | 科技知识 | |
| 培训目标： | 加强本土人员的专业培训，从质量和数量上满足国家研发战略对先进光刻机任参的需求 | |
| 培训对象： | 科研人员 | |
| 学员条件： | 国产光刻机相关专业科研开发人员 | |
| 培训内容： | 光刻研发项目管理、光刻工艺、光学制造、EUV真空、对准、对焦、成像、计量等 | |
| 培训时间： | 自 2013-05-06 00:00:00 至 2013-10-31 23:59:00 | |
| 培训地点： | 北京 | |
| 主办单位： | 中国科学院微电子研究所 | |
| 承办单位： | ||
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