| 基本信息 | ||
|---|---|---|
| 项目名称： | 电子束曝光专业技能培训 | |
| 项目分类： | 技术岗位培训 | |
| 培训目标： | 此次培训有2个目的: 1)介绍国内电子束曝光的最新进展，给国内从事电子束曝光的工作人员提供一个经验交流的平台；2）专业技能培训给致力于电子束曝光的学生、学者一个很好的系统学习的机会，为国家储备更多的电子束曝光及微纳加工专业人才。此次培训旨在通过该平台进行经验交流，提升国内从事电子束曝光的整体实力，更好的为国内科研服务。我们希望通过此次培训让学员能够进行系统学习基本理论知识和实际操作，为其以后继续深入学习奠定良好基础，为中国电子束曝光领域提供专门技术人才储备。 | |
| 培训对象： | 科研人员技术支撑人员其他 | |
| 学员条件： | ||
| 培训内容： | 电子束曝光设备组成及工作原理、常用的电子束抗蚀剂及曝光显影技术、版图设计及数据转换、电子束直写技术、对准标记设计套刻技术、电子束曝光操作技术规范和实际操作等内容。 | |
| 培训时间： | 自 2013-05-14 00:00:00 至 2013-05-24 23:59:00 | |
| 培训地点： | 国家纳米科学中心 | |
| 主办单位： | 国家纳米科学中心 | |
| 承办单位： | 国家纳米科学中心 | |
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